Fabricação de alvos de pulverização catódica de tungstênio 80%
Aplicação de alvo de pulverização catódica:
O fenômeno em que partículas carregadas (como íons de argônio) bombardeiam uma superfície sólida, fazendo com que várias partículas na superfície, como átomos, moléculas ou aglomerados, escapem da superfície do objeto é chamado de "pulverização catódica". No revestimento de pulverização catódica magnetron, íons positivos gerados pela ionização de gás argônio são geralmente usados para bombardear o sólido (alvo), e os átomos neutros pulverizados são depositados no substrato (peça de trabalho) para formar uma camada de filme. O revestimento de pulverização catódica magnetron tem "Tem duas características principais: "baixa temperatura" e "rápido".
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Princípio da pulverização catódica do magnetron:
Um campo magnético ortogonal e um campo elétrico são adicionados entre o alvo pulverizado (cátodo) e o ânodo, e o gás inerte necessário (geralmente gás Ar) é preenchido na câmara de alto vácuo. O ímã permanente forma um ângulo de 250 a 350 graus na superfície do material alvo. O campo magnético gaussiano e o campo elétrico de alta voltagem formam um campo eletromagnético ortogonal.
Sob a ação do campo elétrico, o gás Ar é ionizado em íons positivos e elétrons. Uma certa alta voltagem negativa é aplicada ao alvo. Os elétrons emitidos do alvo são afetados pelo campo magnético e a probabilidade de ionização do gás de trabalho aumenta. Um plasma de alta densidade é formado perto do cátodo. Os íons Ar aceleram em direção à superfície do alvo sob a ação da força de Lorentz e bombardeiam a superfície do alvo a uma velocidade muito alta, fazendo com que os átomos pulverizados no alvo sigam o princípio da conversão de momento. A alta energia cinética deixa a superfície do alvo e voa para o substrato para depositar um filme.
Alvos de pulverização catódica de 99,95% de tungstênio
A pulverização catódica magnetron é geralmente dividida em dois tipos: pulverização catódica DC e pulverização catódica de radiofrequência. O princípio do equipamento de pulverização catódica DC é simples, e sua velocidade também é rápida ao pulverizar metal. A pulverização catódica de radiofrequência tem uma gama mais ampla de aplicações. Além de pulverizar materiais condutores, ela também pode pulverizar materiais não condutores. Ela também pode executar pulverização catódica reativa para preparar materiais compostos como óxidos, nitretos e carbonetos. Se a frequência da radiofrequência for aumentada, ela se torna pulverização catódica de plasma de micro-ondas. Atualmente, a pulverização catódica de plasma de micro-ondas do tipo ressonância de ciclotron de elétrons (ECR) é comumente usada.
