Método de redução de sílica: Este é um método de preparação comum. A sílica e o agente de redução carbonácea são reduzidos em um forno de alta temperatura para gerar silício de metal.
O silício de metal gerado é resfriado, esmagado e peneirado para obter pó de silício de metal de diferentes tamanhos de partículas.
Método de deposição de vapor: Através da tecnologia de deposição de vapor químico (DCV), o gás contendo silício (como o silano) é decomposto em alta temperatura e depositado no substrato para formar o silício de metal em pó. O pó de silício de metal preparado por esse método possui alta pureza e tamanho uniforme de partícula, adequado para aplicações eletrônicas de alta precisão.
Método plasmático: Usando as características de alta temperatura e alta energia do plasma, os materiais de origem de silício (como o silano) são decompostos para gerar o pó de silício de metal. OMetal Silicon PowderPreparado por esse método, possui alta pureza e alta atividade, adequada para aplicação.
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